最先端のナノ粒子成膜技術を提供

【事業概要】
①エアロゾル化ガスデポジション（AGD）装置の製造・販売
［AGD；セラミックス微粉をガスと共に搬送しノズルから噴射させ緻密な膜を常温で形成する装置］
②ガスデポジション（GD）装置の製造・販売
［GD；金属ナノ粒子の高速噴射による、低温・マスクレスの乾式直接描画装置］
③AGDおよびGDを使用した受託試作膜形成
④ナノ粒子関連装置の製造・販売
［ｶｰﾎﾞﾝﾅﾉﾎｰﾝ、ｶｰﾎﾞﾝﾅﾉﾁｭｰﾌﾞ、ﾒﾀﾙﾌﾗｰﾚﾝなど］

新規エアロゾル化ガスデポジション（AGD）装置を使用し、高い絶縁破壊電界強度を持つセラミックス被覆膜形成技術を開発し、そのAGD装置を製品化した。アルミナ被覆膜の絶縁破壊電界強度としてバルク体の10倍の2MV/cm以上で、かつその成膜速度がスパッタ法の70倍の700nm/min以上となる高速成膜技術である。電気絶縁性、遮蔽バリアー性、耐熱特性などを必要とする分野、そしてバッテリー分野など、今までスパッタでは成膜速度が遅く適用してこなかったセラミックス成膜の広い応用分野での実用化を進めている。
会社の基本的な考え方の一つが、エアロゾル化ガスデポジション技術の先駆者たる地位を固めるとともに、その技術発展に果敢に挑戦するである。また零細企業がビジネスで他社に先駆け優位性を持つには、有効な特許の保有が重要であるとのポリシーのもと、特許出願を積極的に進めてきた。現在、特許保有は国内外合わせて21件となっている。中小企業の保有数としては多く、競合他社に対し優位性がある。継続的な事業運営のために、黒字決算の確保を必須方針とし、創業以来、15期連続の黒字決算を達成してきており、ベンチャー企業ではあるが開発型の貴重な企業となったと自負している。弊社は装置メーカであるが、AGDの試作成膜処理も請けており、その件数はすでに250件を超えており、現在も多くの処理を請けている。
受賞歴として、2013年のベンチャー企業経営者表彰、粉体粉末冶金協会の技術進歩賞、発明大賞、新技術・新製品賞、そして2018年機械振興賞をAGD装置で頂いている。

取締役社長
渕田英嗣

新規AGD装置の引き合い成膜分野には、電気部品、半導体製造装置内壁、掘削パイプ内、有機系基材、固体電池、鋳型材・建材など多岐にわたります。弊社が実用化できるものから果敢に挑戦を続けています。ただ、大きな市場の可能性はあるが、弊社規模では手が付けられず、弊社では優先順位が低くなっているものもあります。